日本光刻胶巨头JSR公司的美国CEO埃里克·约翰逊在一次访谈中指出，我认为中国非常想发展自己的EUV技术生态，但是他们想要做到这一点很困难，因为其中涉及到日本企业垄断多年的光刻胶材料。

　　即便中国企业获得了先进光刻胶材料的化学配比文件，但是想要在纯度、精度、规模化量产方面取得成功，制造出与日本企业一样好的材料，远远没那么简单。

　　日本企业在光刻胶领域拥有70%以上的市场占有率，在高端的ArF和EUV光刻胶领域，日本JSR、东京应化、信越化学、富士电子材料这几家企业的市场占有率常年保持在90%以上，光刻胶材料慢慢的变成了了日本半导体产业的核心命脉。

　　2019年，日本政府宣布对出口韩国的半导体材料实行管控，其中就包括了光刻胶。韩国对于日本光刻胶的依赖程度达到了80%，三星、SK海力士受日本管控的影响出现运营压力，于是韩国政府牵头，投入6万亿韩元的预算，鼓励本土企业在光刻胶等制造材料上面进行突围。

　　2022年，三星宣布将韩国东进半导体研发的EUV光刻胶材料应用在自家的生产线中，实现了对日本企业的材料替代。

　　韩国企业的案例，已经说明日本企业手中的光刻胶材料并不是什么高不可攀的存在。虽然日本企业有明显的市场优势，但只要是投入研发，以自主产业链为导向，也有望实现对日本材料的国产化替代。

　　根据世界半导体贸易组织的多个方面数据显示，全球半导体全年的市场规模为5700亿以上，而光刻胶的市场规模只有22亿美元左右，其市场占比不足1%，属于偏小众规模的半导体产业。

　　由于日本企业常年深耕光刻胶材料，所以其价格实惠、质量好，国际层面逐步对日本的光刻胶材料产生依赖性。

　　除此之外，日本的光刻胶材料已经与特定企业推出的制造设备形成了产业适配性。如果要放弃日本光刻胶，重新开发一套全新的技术材料，那么就要重新与相关的制造设备做适配，这要消耗大量的时间精力。

　　这种多年时间建立的技术适配性与产业依赖性，是埃里克·约翰逊认为中国企业没办法制造出先进光刻胶材料的理论依据。

　　有网友认为，美国或者是日本的出口管制，将会使中国企业开发出更低成本的国产替代品，没有人喜欢遭到他人的“勒索威胁”。

　　中国企业一定会成功，只不过需要一些时间。如果说有什么方法能阻止中国企业，那就是让中国企业放弃研发自主技术的想法。

　　埃里克·约翰逊的理论体系，与当年西方媒体说中国人造不出圆珠笔头、给全套图纸也造不出光刻机一样可笑。

　　其实很多产业我们并不是没有发展技术的能力，而是这个产业并不适合我们，没必要去投入资源重新开发。

　　前德国西门子中国MES行业总监李铁军曾经在采访中指出，中国造圆珠笔头这件事情的结局是，山西太钢集团炼了一炉钢材，这炉钢材所导致的直接结果就是全世界的制造圆珠笔头的钢材全部产能过剩。

　　这是一个很小众的细分市场，但是并不意味着我们做不出来，只是我们大家都认为没有必要去做。

　　同样的例子还有光刻机，上海微电子董事长贺荣明先生曾经在公司创立初期，带队去外国进行技术访问。

　　当外国人得知贺先生团队要做中国的光刻机之后，在震惊的同时还略带鄙夷的对贺先生说到，就是给你们全套图纸，你们也造不出来。

　　以现在的情况去看，中国企业不但制造出了光刻机，而且还在持续开发更先进的自主光刻机设备。

　　无论是圆珠笔头还是光刻机，西方国家经常以旧时代的眼光来看待中国科技产业的发展，认为中国制造还停留在几十年前的代工阶段，只能制造一些需求量大的工业和消费品。

　　但是如今的中国制造业已确定进入了新时代，开始攻克曾经被国外卡脖子严重的精密机床、先进芯片设备、高端材料等环节。

　　日本光刻胶材料所体现出来的优势有两个，一个是材料与设备的适配性，另一个就是日积月累的材料配比数据。

　　这两个特点都需要供应链深度合作，经过长期的试错验证才能达到量产商用水平。

　　而中国芯片产业已经在美国制裁的影响下，进入到了深度合作阶段。在此阶段当中，国产芯片形成了一种设备、材料、制造工厂联合攻关的模式。

　　开发出了全新的设备材料，下游工厂积极使用，将暴露出来的问题反馈给上游公司进行解决，通过反复的技术调试与大量制造数据当做参考，一直在优化国产设备材料的适配性。

　　只要研发的设备材料可以适配国内的供应链体系，单靠着中国大陆地区庞大的内需市场，足够支撑起整个自主产业链的商业化发展。返回搜狐，查看更加多